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北京HiPIMS，低溫ITO沉積的機會！
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關于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測調(diào)試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國家級高新技術企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關領域發(fā)表學術論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學術論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發(fā)
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20+個
定制開發(fā)項目
企業(yè)榮譽
新聞中心
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北京磁控濺射有哪些種類?不同種類的工作原理是什么?
磁控濺射作為一種物理 氣相沉積（PVD）技術，在材料科學與工程領域有著廣泛的應用。它通過結合電場和磁場的作用，提高了濺射過程中的粒子利用率和沉積效率。磁控濺射可以根據(jù)不同的分類標準分為多種類型，每種類型都有其獨特的工作原理和適用范圍。以下是一些常見的磁控濺射種類及其工作原理概述：...
- 2024-07-26 10:21:43 | →
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北京點擊關注，了解最前沿的真空應用技術，跟隨新鉑科技走向未來！
在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應用領域技術實力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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北京新鉑科技參加2023國際新材料展
2023年6月27-29日，在深圳國際會展中心20號館舉辦了2023國際新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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北京真空磁控濺射涂層技術與真空蒸發(fā)涂層技術的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術不同于真空蒸發(fā)涂層技術。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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北京真空鍍膜技術中，薄膜厚度的測量和控制是如何實現(xiàn)的？
這是一種常用的測量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當一束光照射到薄膜表面時，部分光被反射，部分光透過薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，這兩束反射光會發(fā)生干涉。通過檢測干涉條紋的變化來確定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
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北京如何控制和優(yōu)化真空鍍膜參數(shù)以獲得較佳的效果
蒸發(fā)源溫度是關鍵參數(shù)。對于不同的鍍膜材料，有其特定的蒸發(fā)溫度范圍。如蒸發(fā)金屬鋁，溫度一般在1200-1400℃。通過溫度傳感器和反饋控制系統(tǒng)，如熱電偶結合PID控制器，能控制溫度。溫度過高可能導致材料過度蒸發(fā)，...
- 2024-11-28 11:28:09 | →
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北京真空鍍膜過程中，材料是如何從源轉(zhuǎn)移到基底上的
在蒸發(fā)鍍膜技術中，首先將鍍膜材料加熱到足夠高的溫度，使其原子或分子獲得足夠的能量克服表面能，從固態(tài)或液態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)。這個過程通常在真空環(huán)境下的蒸發(fā)源中進行。例如，對于金屬材料如鋁，通過電阻加熱、電子束加熱等方式使鋁原子從蒸發(fā)源的固體表面逸出。...
- 2024-11-28 10:14:36 | →
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北京PECVD的關鍵工藝參數(shù)包括哪些，它們?nèi)绾斡绊懕∧さ奶匦裕?/a>
PECVD（等離子體增強化學氣相沉積）的關鍵工藝參數(shù)包括以下幾個方面：...
- 2024-11-20 15:14:31 | →
北京管道結垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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北京真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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北京HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點。因此，HiPIMS技術在薄膜沉積領域得到了廣泛的應用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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北京HIPiMS技術在沉積過程中如何控制薄膜的微觀結構
HIPiMS技術的核心是使用高功率脈沖放電，這導致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過調(diào)整脈沖峰值功率，可以改變?yōu)R射粒子的能量分布。較高的功率通常會導致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →