HiPIMS設備：高能脈沖弧PVD設備及脈沖復合PVD設備
HiPIMS設備產(chǎn)品介紹：
高功率離子源在高離子電流密度下在更大面積上實現(xiàn)均勻、更大的離子沉積分布。
不同金屬、合金和氧化物的混合濺射，膜層均勻。
全自動控制系統(tǒng)，防腐能力極高
0769-81001639
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