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表面處理技術(shù)專(zhuān)家

全球領(lǐng)先，12m超長(zhǎng)管道鍍膜技術(shù)

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新鉑科技專(zhuān)注于高功率脈沖等離子體真空鍍膜技術(shù)

電源

HiPIMS電源，P3E電源， 100KHz偏壓電源
設(shè)備

高功率磁控PVD設(shè)備
高能脈沖弧PVD設(shè)備、管道PECVD鍍膜設(shè)備
工藝

DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN

產(chǎn)品及解決方案

HiPIMS設(shè)備：高能脈沖弧PVD設(shè)備及脈沖復(fù)合PVD設(shè)備

應(yīng)用案例

about us

關(guān)于新鉑

新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線(xiàn)和5條檢測(cè)調(diào)試線(xiàn)，廠(chǎng)房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷(xiāo)售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。

60%

研發(fā)人員占比
300+

發(fā)布學(xué)術(shù)論文
4.5星級(jí)

客戶(hù)好評(píng)
50+個(gè)

課題合作研發(fā)
20+個(gè)

定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目

企業(yè)榮譽(yù)

新聞中心

HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！

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磁控濺射有哪些種類(lèi)?不同種類(lèi)的工作原理是什么?

磁控濺射作為一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，在材料科學(xué)與工程領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它通過(guò)結(jié)合電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用，提高了濺射過(guò)程中的粒子利用率和沉積效率。磁控濺射可以根據(jù)不同的分類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)分為多種類(lèi)型，每種類(lèi)型都有其獨(dú)特的工作原理和適用范圍。以下是一些常見(jiàn)的磁控濺射種類(lèi)及其工作原理概述：...

2024-07-26 10:21:43 | →
點(diǎn)擊關(guān)注，了解最前沿的真空應(yīng)用技術(shù)，跟隨新鉑科技走向未來(lái)！

在展示區(qū)展出了新鉑等離子體鍍膜工藝成品與電源設(shè)備，讓參展的嘉賓與展商皆感嘆新鉑科技在真空應(yīng)用領(lǐng)域技術(shù)實(shí)力！...

2023-08-19 09:21:58 | →
新鉑科技參加2023國(guó)際新材料展

2023年6月27-29日，在深圳國(guó)際會(huì)展中心20號(hào)館舉辦了2023國(guó)際新材料展(MATERIALS.CN)...

2023-06-30 13:45:56 | →
HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！

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2023-06-01 13:00:32 | →

真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別

真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...

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真空鍍膜和電鍍的區(qū)別

真空鍍膜和電鍍作為兩種常見(jiàn)的表面處理技術(shù)，在多個(gè)方面存在顯著的區(qū)別。以下是對(duì)兩者區(qū)別的詳細(xì)闡述：...

2024-08-09 11:59:37 | →
HIPIMS放電等離子體特性

通過(guò)脈沖電源產(chǎn)生高密度等離子體來(lái)濺射靶材，從而在基材上沉積高質(zhì)量的薄膜。HIPIMS技術(shù)相比于傳統(tǒng)的直流磁控濺射技術(shù)，能夠提供更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量和更強(qiáng)的薄膜與基底間的附著力。下面我們來(lái)探討HIPIMS放電等離子體的主要特性。...

2024-08-05 11:11:47 | →
HIPIMS技術(shù)沉積TiSiN納米復(fù)合涂層探究

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）薄膜沉積方法，它在沉積TiSiN納米復(fù)合涂層方面展現(xiàn)出顯著的優(yōu)勢(shì)。與傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS）技術(shù)相比，...

2024-07-08 11:21:36 | →
hipims脈沖電源與DC優(yōu)勢(shì)

HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脈沖電源與DC（Direct Current）電源相比，在多個(gè)方面展現(xiàn)出顯著的優(yōu)勢(shì)。以下是對(duì)這些優(yōu)勢(shì)的詳細(xì)分析：...

2024-06-21 17:37:53 | →

管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！

在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過(guò)飽和而酸化，...

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HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎

高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，其特點(diǎn)是使用高功率脈沖對(duì)靶材進(jìn)行激發(fā)，以提高濺射過(guò)程的離子化程度和沉積速率。...

2024-08-29 11:44:18 | →
HIPIMS技術(shù)在金屬雙極板涂層中的應(yīng)用

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，它通過(guò)使用高峰值功率和低占空比的脈沖電源來(lái)實(shí)現(xiàn)材料的濺射。...

2024-08-19 11:28:21 | →
hipims脈沖電源控制模式

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脈沖電源控制模式是一種在薄膜沉積技術(shù)中廣泛應(yīng)用電源控制方式。...

2024-06-13 10:35:19 | →
真空鍍膜時(shí)為什么要用到高純氣體

真空鍍膜時(shí)用到高純氣體的原因，可以歸結(jié)為以下幾點(diǎn)，下面將進(jìn)行詳細(xì)闡述：一、減少雜質(zhì)影響，提升薄膜質(zhì)量...

2024-06-13 10:21:18 | →