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真空鍍膜和電鍍的區(qū)別
真空鍍膜和電鍍都是常見的表面處理技術(shù)，用于改善物體外觀和性能。它們有一些共同點(diǎn)，但也存在著一些明顯的區(qū)別。下面我將詳細(xì)介紹這兩種技術(shù)的區(qū)別。
HiPIMS：簡單的方法就能調(diào)控磁控濺射中的金屬/氣體離子比？
1）磁控濺射：HiPIMS中簡單的脈寬變化，就能調(diào)控膜層中的金屬/氣體離子比。
2）常規(guī)的磁控靶換成HiPIMS電源就可以達(dá)到上述效果。
不平凡的釩靶HiPIMS（放電區(qū)直徑約３０ｍｍ放電電流達(dá)１４０Ａ）
金屬釩（V）作為一種高熔點(diǎn)的稀有金屬材料，常與鈮、鉭、鎢、鉬并稱為難熔金屬。金屬釩具有耐鹽酸和硫酸的性能，并且耐氣-鹽-水腐蝕的性能要比大多數(shù)不銹鋼好。在某些特殊的重要場合，金屬V薄膜常被用來作為高溫隔離防護(hù)涂層，因此開展V靶HIPIMS放電特性方面的研究工作具有重要的意義。
6種靶材HiPIMS放電大不相同，設(shè)計(jì)工藝要知道!
HiPIMS放電，由于工作在放電曲線的特殊區(qū)域，其放電特性不僅依賴于使用的氣壓、電壓，更依賴于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脈沖工作，其放電特性具有時間特征，而表現(xiàn)出不同的放電特性。這里我們選用常用的幾種靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），給出了他們的放電特性。這種與時間相關(guān)的放電特性，對于工藝設(shè)計(jì)是非常重要的。
雙脈沖HiPIMS比傳統(tǒng)HiPIMS沉積速率提高近3倍
一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術(shù)，即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術(shù)，目的是解決傳統(tǒng)高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問題。
真空弧放電下不同尋常的陰極腐蝕圖案
對于真空弧放電下的弧斑導(dǎo)致的陰極材料的腐蝕研究其實(shí)由來已久。對于真空弧放電下的弧斑主要有兩種，一種是移動較快、較小、較暗的弧斑，主要發(fā)生在較臟的靶面和氧化的靶面；另一種是移動較慢、較大較亮的弧斑，其主要發(fā)生在干凈和惰性氣體放電時的靶面。